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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제13권 2호
발행연도
1990.11
수록면
314 - 316 (3page)

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1990

N/O(Si₃N₄/SiO₂) 유전막의 TDDB 특성에 미치는 상부산화조건의 영향
고재석 ,  구경완 ,  조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료
LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화
고재석 ,  구경완 ,  조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료
N / O ( Si3N4 / SiO2 ) 유전막의 Tddb 특성에 미치는 상부산화조건의 영향 ( Effects of Top OxIdation Condition on Tddb Characteristics of N / O ( Si3N4 / SiO2 ) Dielectric Films )
고재석 ,  구경완 ,  조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료
LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화 ( Thermal Oxidation of Thin LPCVD-Si3N4 Film )
고재석 ,  구경완 ,  조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료

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증착온도가 LPCVD 실리콘 박막의 물성과 전기적 특성에 미치는 영향
洪贊熹 ,  朴昌燁 전기학회논문지 1992 .07
얇은 열산화-질화막의 특성평가 ( Evaluation of Characteristics of Oxidized Thin LPCVD-Si3N4 Film )
구경완 ,  조성길 ,  홍봉식 전자공학회논문지-A 1992 .09

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