N / O ( Si3N4 / SiO2 ) 유전막의 Tddb 특성에 미치는 상부산화조건의 영향 ( Effects of Top OxIdation Condition on Tddb Characteristics of N / O ( Si3N4 / SiO2 ) Dielectric Films )

고재석; 구경완; 조동율; 홍봉식

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 고재석 구경완 조동율 홍봉식

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제13권 2호

발행연도: 1990.11

수록면: 325 - 329 (5page)

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1990

N/O(Si₃N₄/SiO₂) 유전막의 TDDB 특성에 미치는 상부산화조건의 영향

고재석 , 구경완 , 조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료

LPCVD-Si₃N₄ 박막의 열 산화

고재석 , 구경완 , 조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료

N / O ( Si3N4 / SiO2 ) 유전막의 Tddb 특성에 미치는 상부산화조건의 영향 ( Effects of Top OxIdation Condition on Tddb Characteristics of N / O ( Si3N4 / SiO2 ) Dielectric Films )

고재석 , 구경완 , 조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료

LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화 ( Thermal Oxidation of Thin LPCVD-Si3N4 Film )

고재석 , 구경완 , 조동율 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.11 학술대회자료

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