Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films

김한수 ,  김창일 ,  우종창 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2013 .01

ICP-RIE 방법에 의한 Si 식각 특성 개선에 관한 연구

강교성 ,  권순일 ,  양계준 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

ICP-RIE 방법에 의한 Si 식각 특성 개선에 관한 연구

강교성 ,  권순일 ,  양계준 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

나노 부유 게이트 메모리 소자 응용을 위한실리콘 나노-바늘 구조에 관한 연구

정성욱 ,  김경해 ,  김영국 외 2명

전기전자재료학회논문지

2005 .01

The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process

우종창 ,  최창억 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2014 .01

The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma

Jong-Chang Woo ,  주영희 ,  Jung-Soo Pa 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas

Pa ,  k ,  Sang-Duk 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석

고석철 ,  한병성 ,  최효상 외 2명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas

강동진 ,  이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2006 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  한승수

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

INDUCTIVELY COUPLED PLASMA (ICP) OXIDATION FOR LOW-TEMPERATURE POLY-Si THIN FILM TRANSISTORS

Pa ,  k ,  Yong-Woo 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Surface Reaction of TaN Metal Gate Etching by using Inductively Coupled Plasma

Doo Seung Um ,  Dong Pyo Kim ,  Gwan Ha Kim 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  노호택 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2014 .06