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이진선 (한양대학교) 이정민 (한양대학교) 오홍준 (홍익대학교) 송봉근 (홍익대학교) 박태주 (한양대학교) 김우희 (한양대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021년도 한국표면공학회 춘계학술대회
발행연도
2021.6
수록면
73 - 73 (1page)

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영역 선택적 원자층 증착법 (AS-ALD)은 원자 단위의 선택적 증착이 다차원 구조 영역에서 상향식 방식으로 달성할 수 있다는 점에서 기존의 하향식 패터닝 프로세스와 비교할 때 엄청난 이점을 제공합니다. 이 연구에서는 화학 선택적 흡착을 통해 산화물 대 질화물에 대한 아미노 실란 전구체의 표면 의존적 선택성을 활용하는 방법이 보고되었습니다. 이를 위해 SiN 기판이 아닌 SiO<SUB>2</SUB> 기판 위에서만 SiO<SUB>2</SUB> 박막이 증착되는 AS-ALD를 조사합니다. 밀도범함수 이론 (DFT) 계산을 사용하는 이론적 스크리닝은 흡착 선택성을 최대화하는 Si 전구체를 식별하기 위해 수행됩니다. 결과는 halosilane 대비 aminosilane 계열 이 가장^_@span style=color:#999999 ^_# ... ^_@/span^_#^_@a href=javascript:; onclick=onClickReadNode('NODE10599428');fn_statistics('Z354','null','null'); style='color:#999999;font-size:14px;text-decoration:underline;' ^_#전체 초록 보기^_@/a^_#

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