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학술저널
저자정보
Si-Won Lee (Myongji University) Seongjae Cho (Gachon University) Il Hwan Cho (Myongji University) Garam Kim (Myongji University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.23 No.1
발행연도
2023.2
수록면
64 - 70 (7page)
DOI
10.5573/JSTS.2023.23.1.64

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In this paper, a novel one-transistor dynamic random-access memory (1T DRAM) with a raised SiGe quantum well (QW) under one gate in the double-gate (DG) structure is proposed. The proposed structure can improve the poor performance of the retention time and sensing margin which is the problem of the conventional 1T DRAM. In write operation, the performance is improved through the band to band tunneling (BTBT) between body and drain and through valence band offset between SiGe and Si. Also by utilizing the physical barrier of oxide, read “1” retention time can be increased. The fabrication process is also proposed.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. DEVICE STRUCTURE AND OPERATIONS
III. RESULTS AND DISCUSSION
IV. VIABLE PROCESS INTEGRATION
V. CONCLUSION
IV. REFERENCE

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