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Ar/N₂/SiH₄/NH₃ 유도 결합형 플라즈마의 N₂ 함량에 따른 플라즈마 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2016 .07
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박막 태양전지용 SiH₄ PECVD system의 수치 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .05
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PECVD 질화막 증착시 SiH₄/NH₃ 유량비가 비휘발성 MNOS 기억소자의 특성에 미치는 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
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SiH₄ 가스의 에너지 분포함수 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
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유체 시뮬레이션을 이용한 N₂/SiH₄/NH₃ 유도 결합형 플라즈마 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2016 .10
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PECVD SiNx 박막의 다결정 실리콘 태양전지에 미치는 영향
전기전자재료학회논문지
2005 .01
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SiH₄-Ar혼합기체의 전자분포함수 해석
전기학회논문지 P
2004 .06
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SiH₄+Ar혼합기체의 전자군 파라미터 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
2002 .06
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PECVD a - SiNx : H 薄膜의 特性과 熱的安定性
한국태양에너지학회 논문집
1986 .05
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SiH₄+Ar가스의 전자평균에너지 및 전자에너지분포함수 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
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N₂/NH₃SiH₄ 유도 결합형 플라즈마의 압력과 혼합가스 비율에 따른 이온 및 중성기체 밀도 분포
전기학회논문지
2017 .02
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SiH₄-H₂계에서 유체유동이 Si의 화학증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1990 .09
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SiH₄ 플라즈마중의 전자수송특성 해석
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .11
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다결정 박막 트랜지스터 적용을 위한 SiNx 박막 연구
전기전자재료학회논문지
2003 .01
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ATOMIC LAYER DEPOSITION OF Ti-Si-N THIN FILMS BY SEQUENTIAL INTRODUCTION OF $TiCl_4,{\;}SiH_4$ AND $NH_3$
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
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$SiH_4$ 첨가에 의한 저유전율 SiOF 박막의 유전 특성 안정화
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
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SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1993 .02
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
고굴절률 PECVD SiNx 박막의 성장 및 그 표면특성 분석
추성중
,
정재욱
,
정의석
외 1명
한국진공학회 학술발표회초록집
2011
.02
PECVD silicon nitride 박막굴절률 및 식각속도의 화확적결합밀도 의존성 연구
이중환
,
이상환
,
서경수
외 3명
한국진공학회 학술발표회초록집
1993
.07
직업교육훈련 현장학습 질 관리 평가준거 개발
김혜연
,
박인우
인적자원개발연구
2017
.12
<신세기 에반게리온>에서 나타난 이데올로기 특징 분석 : "롱기누스의 창"과 "AT필드"를 중심으로
유사첩
,
이종한
만화애니메이션 연구
2017
.06
플라즈마 화학기상증착법을 이용한 비정질 규소 및 질화규소의 저온성막 연구
이호년
한국산학기술학회 논문지
2007
.10
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